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大使館基坑工程施工方案15p

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大使館，位于北京市朝陽區(qū)亮馬橋第三使館區(qū)內(nèi)，基底埋深為5m，局部電梯井6m。
二、工程及水文地質(zhì)條件（參考附近的馬來西亞駐華使館地質(zhì)勘察資料）
（一）工程地質(zhì)條件擬建場地位于北京市朝陽區(qū)亮馬橋路北側(cè)第三使館區(qū)內(nèi)，地形平坦。根據(jù)鉆探結(jié)果，擬建場地在15m 勘探深度內(nèi)的地質(zhì)構(gòu)成為：地表為人工填土，以下為第四紀(jì)沖擊層，自上而下分述如下：
1.雜填土：本層厚度0.50～2.70m，層底標(biāo)高34.84～37.57m。
2.素填土：本層厚度0.40～1.80m，層底標(biāo)高33.94～36.83m。
3.質(zhì)黏土：本層厚度9.60～10.80m，層底標(biāo)高26.12～27.53m。（二）工程水文地質(zhì)情況1999 年12 月上旬勘探時，遇到兩層地下水，第一層為上層滯水，靜止水位埋深0.80～3.20m（相應(yīng)于標(biāo)高34.90～36.06m）；第二層為潛水，靜止水位埋深14.00m（相應(yīng)于標(biāo)高24.22m）。近年最高地下水位標(biāo)高為36.00m 左右（上層滯水）。
發(fā)布：2007-08-04 09:35    編輯：泛普軟件 · xiaona    [打印此頁]    [關(guān)閉]
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