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大使館基坑工程施工方案40p

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該工程為某國駐華大使館,位于北京市某區(qū)內(nèi),基底埋深為5m,局部電梯井6m。

工程及水文地質(zhì)條件(參考附近的某國駐華使館地勘資料)
1、工程地質(zhì)條件
擬建場地位于北京某區(qū)、第三使館區(qū)內(nèi),地形平坦。
根據(jù)鉆探結(jié)果,擬建場地在15m勘探深度內(nèi)的地質(zhì)構(gòu)成為:地表為人工填土,以下為第四紀沖擊層,自上而下分述如下:
①1雜填土:本層厚度0.50-2.70m,層底標高34.84-37.57m。
①2素填土:本層厚度0.40-1.80m,層底標高33.94-36.83m。
②粉質(zhì)粘土:本層厚度9.60-10.80m,層底標高26.12-27.53m。
2、工程水文地質(zhì)情況
1999年12月上旬勘探時,遇到兩層地下水,第一層為上層滯水,靜止水位埋深0.80-3.20m(相應(yīng)于標高34.90-36.06m);第二層為潛水,靜止水位埋深14.00m(相應(yīng)于標高24.22m)。近年最高地下水位標高為36.00m左右(上層滯水)。
發(fā)布:2007-08-04 09:34    編輯:泛普軟件 · xiaona    [打印此頁]    [關(guān)閉]
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